和远气体公告，公司近日获取1项发明专利，称号为“一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备安装过甚工艺”。该专利接管高分子渗入膜、金属阳离子交换树脂、稀土金属化合物脱水与高压精馏的联结，可将组分中CO2杂质脱除至0.1ppm以下、金属离子含量脱除至10ppt以下。该专利的获取不会对公司的分娩缱绻和缱绻功绩产生首要影响，但成心于公司在电子特气规模的期间储备与期间进步，对公司在电子特气规模进一步发展提供期间支援。

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